Ipex 2010 - Deux nouveautés dans la gamme de plaques à chimies réduites de Fujifilm

Fujifilm annonce la sortie des plaques Brillia HD LH-PLE et Brillia HD LH-NI3.

Fujifilm vient d’annoncer qu’à l’occasion de l’Ipex, sa gamme de plaques à chimie réduite s’enrichira de deux nouvelles références.

Toutes deux compatibles avec la développeuse intelligente FLH-Z « ZAC » de la marque, les plaques Brillia HD LH-PLE et Brillia HD LH-NI3 ont été conçues pour permettre aux imprimeurs de réduire leurs coûts et l’impact de leur activité sur l’environnement.

Avec la Brillia HD LH-PLE, Fujifilm crée une nouvelle génération de plaques thermiques de grande qualité à traitement rapide. Destinée aux rotatives heatset, elle garantit une productivité élevée aux imprimeurs traitant de grands volumes en labeur puisqu’elle supporte des tirages allant jusqu’à 300 000 exemplaires. Fabriquée sur le site de Tilburg de Fujifilm à partir du tout dernier alliage d’aluminium ultra-robuste mis au point, elle résiste mieux aux contraintes subies durant les longs tirages, notamment le craquelage et les fissures.

La plaque Brillia HD LH-NI3 de Fujifilm appartient à la troisième génération de plaques thermiques négatives avec cuisson. Elle est destinée aux très longs tirages sur presses à feuilles et rotatives. Outre une excellente qualité, la LH-NI3 offre aux imprimeurs la possibilité de réduire très nettement l’utilisation de chimie si elle est développée sur le système FLH-Z « ZAC » de Fujifilm.

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